アーク蒸発源やスパッタ源は、ファインコーティング装置のいわば心臓部です。 長年の研究開発の大部分はこれらの開発に費やされました。 アーク方式は原理的に、金属材料の溶けすぎによって粗大粒子（ドロップレット）が放出される問題点がありましたが、それを実質的に克服できる技術を開発しました。 しかし、ひとつで万能のものはなく、材料によって最適な方式が異なります。

蒸発源	イメージイラスト	代表的な用途	蒸発源の特徴	アーク電流動作レンジ
2S蒸発源		金属窒化膜の形成	低いアーク電流からでも動作するため、約200℃の低温成膜にも使用できます。	40-150A
2SD蒸発源		金属窒化膜の積層	１基の蒸発源に2つのカソード材料を取り付け、どちらかを選択的に使用できます。 2S蒸発源の特徴に加え、違う材料を交互に放電させるなどの特殊積層膜の成膜に使用できます。	40-150A
3S蒸発源		金属膜、金属窒化膜の成膜	強磁場によるプラズマで、ドロプレットの少ない平滑な金属膜、金属窒化膜が成膜できます。	60-150A
ステアワン蒸発源		金属窒化膜の形成 （特に合金膜）	高い電流で動作し、高速成膜に向いています。 TiAlやAlCrなどの合金膜で、平滑な膜が形成できます。	100-200A
フラット3S蒸発源		水素フリーDLC膜の形成	カーボンカソード専用の蒸発源です。 最高で70GPaもの高硬度のDLC膜が成膜可能です。	40-150A
MFA蒸発源		平滑水素フリーDLC膜の形成	フィルタード型のカーボンカソード専用蒸発源です。	120-200A
スパッタ源		平滑な金属膜、 窒化金属膜の形成、 密着層の形成	アーク方式ではなく、スパッタリング方式の蒸発源です。 ドロプレットは発生せず平滑な膜が成膜できます。	最大電力密度 10W/cm²

お客様の用途に合わせた
オリジナルな装置を製作します

各装置モデルと各蒸発源との組合せにおいて、取付の可不可を一覧表で示します。
ステアワン蒸発源やスパッタ源の場合にはiDSシリーズとなり、それ以外の蒸発源は主にＭシリーズが適しています。