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iDS®シリーズ
アドバンスドコーティングシステム iDS®シリーズは、各コンポ―ネントを高性能化したことにより、今までにない低コスト短サイクル(当社従来比)の コーティング処理を可能とし、矩形フランジを使用することで、スパッタや他のプラズマ源への対応を可能とした次世代アークイオンプレーティング装置です。
    装置ラインナップ
iDS®-mini iDS®-500 iDS®-720 iDS®-1000
     
iDS®シリーズの特徴
  • ショートサイクル
    排気コンダクタンスを最適化することにより真空排気速度を大幅に向上させ、従来装置よりサイクルタイムを短縮します。
  • 多彩な拡張性
    矩形フランジの採用により、ステアワン蒸発源や従来型2S蒸発源、スパッタ源等の多様なプラズマ源の搭載が可能です。
  • 高メンテナンス性
    前後大型扉を採用し、チャンバー内部のメンテナンスアクセスが容易になるよう設計されています。
  • 多元素複合膜性能
    回転テーブルのギヤ比を最適化することにより、丸棒上ワークに対して均一な多元素金属窒化膜の形成が可能です。
  • 低ランニングコスト
    ステアワン蒸発源は回転磁石によりアークスポット制御し、ターゲットを均一消耗することでターゲットコストを抑えます。
  • 操作性
    ボタン一つで動作チェック⇒真空排気⇒成膜⇒冷却⇒大気解放まで全自動処理を実施します。
  • サポート
    インターネットを使った診断システムにより、遠隔サポート致します。カスタマーサポート専用窓口を設置し、万全のアフターケアと安心のサポートをご提供します。
成膜可能な膜種
  • Ti系膜
    TiN,TiAlN,TiCN,TiSiN,その他Ti系被膜
  • Cr系膜
    CrN,AlCrN,その他Cr系被膜
  • その他
用途
  • 切削工具、金型、自動車部品、機械部品、装飾、その他

ステアワン蒸発源
新開発のアーク蒸発源は、カソード材料をφ160×t12のサイズまで大型化し、広い面積を効率よく消耗させるため、 磁石を回転させる独自の構造となっています(特許登録済み)。この磁石の回転でアークスポットを強制的にスキャンし、より広いターゲットの消耗分布を可能にし、劇的な面粗度の向上を実現しました。 また、当社従来型蒸発源と比較し、同じ成膜条件において23%成膜速度が高く、広い放射角度に対応して広い範囲の成膜エリアをカバーする事が可能です。
ステアワン蒸発源による面粗度の向上
AlCrN膜での比較
         
  当社:従来蒸発源              ステアワン蒸発源
  アドバンスドコーティングシステムiDS®シリーズ
装置型式 iDS®-mini iDS®-500 iDS®-720 iDS®-1000
推奨
コーティングゾーン
(1段仕様)
φ450×H180[mm]
(2段仕様)
φ450×H420[mm]
φ500×H500[mm] φ720×H800[mm] φ1000×H1000[mm]
蒸発源数 3units or 6units 9units(標準)
12units(最大)
12units(標準) 12units(拡張可能)
付属治具テーブル 6軸公転治具 8軸自公転治具 12軸自公転治具 14軸自公転治具
成膜方式 陰極アーク式イオンプレーティング 
基材エッチング方式 ガスボンバード、メタルボンバード 
対応蒸発源
ユニット
2S蒸発源,ステアワン蒸発源,スパッタ蒸発源
扉数 2ドア
ガス系統 標準4系統
ヒーター 標準装備
温度モニター 標準装備(熱電対計測2か所) 標準装備(熱電対計測3か所) 標準装備(熱電対計測3か所) 標準装備(熱電対計測3か所)
主排気ポンプ ターボ分子ポンプ
推奨設置スペース W3500×D5200×H3000 [mm] W5500×D6300×H3000 [mm] W4500×D7000×H3000 [mm] W6500×D8500×H3000 [mm]
重量 装置本体 約2.3t
電源制御盤 約2t
 装置本体 約3.2t
電源制御盤 約2.1t
 装置本体 約4.5t
電源制御盤 約2.3t
 装置本体 約10.8t
電源制御盤 約2t
オプション 蒸発源シャッター
スパッタ蒸発源
ダスト飛散防止ブース
蒸発源シャッター
スパッタ蒸発源
 蒸発源シャッター
スパッタ蒸発源
 蒸発源シャッター
スパッタ蒸発源
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