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  アドバンスドコーティングシステム iDSシリーズ
装置型式 iDS500  iDS-mini
推奨
コーティングゾーン
φ500×H500[mm] (1段仕様)  φ450×H180[mm]
(2段仕様)  φ450×H420[mm]
蒸発源数 3units、6units、9units(標準)、12units(最大) 1~6units 
付属治具テーブル 8軸自公転治具 6または8軸公転治具 
成膜方式 陰極アーク式イオンプレーティング 
基材エッチング方式 ガスボンバード、メタルボンバード 
 蒸発源ユニット構成 ステアワン蒸発源 
カソードサイズ φ160×t12[mm]  φ160×t12[mm]
扉数 2ドア
ガス系統 標準4系統
ヒーター 標準装備
温度モニター 標準装備(熱電対計測2か所) 標準装備(熱電対計測2か所) 
主排気ポンプ
ターボ分子ポンプ
制御システム 全自動
推奨設置スペース W5500×D5800×H3000 [mm] W3500×D5000×H3000 [mm]
重量 装置本体 約3.6t
電源盤、制御盤 約2.1t
 装置本体 約2.3t
電源盤、制御盤 約2.0t
主なオプション
システム
ダスト飛散防止ブース
蒸発源シャッター
スパッタカソード
 スパッタカソード

アドバンスドコーティングシステム iDSシリーズ は、各コンポ―ネントを高性能化したことにより、今までにない低コスト短サイクル(当社従来比)の
コーティング処理を可能とし、短形フランジを
使用することで、スパッタや他のプラズマ源への
対応を可能とした次世代アークイオンプレーティング装置です。
    装置ラインナップ
    iDS500                         iDS-mini
                            
アドバンスドコーティングシステム iDS500 は、iDSシリーズの最も基本
となる次世代アークイオンプレーティング装置です。
iDS500の特長
  • 大幅なサイクルタイム短縮を実現
    高パワーヒーターにより短時間で基材やチャンバー内部を加熱することで水分排出を促進し、大型の ターボ分子ポンプとコンダクタンスの高い排気ラインの採用により短時間で真空引きが完了します。 またコーティング処理の各ステップを短縮化したことにより、約40%と大幅なサイクルタイム短縮 が達成できました。(当社従来比)
  • ダスト対策(オプション)
    コーティング処理は、ピンホール不良などの対策のためダストの少ない環境に設置されますが、チャ ンバー扉を開放した際に装置自身でダストを設置場所 全体に拡散させてしまう欠点がありました。 これを防止するため背面扉側にブースを設置し、チャンバー開放時にはブロアーによりブース内部を 負圧にし、ダストの拡散を防止します。ブロアーから排出される空気はHEPAフィルターで清浄化しそ の場所に戻すため、空調コストの増大が抑えられます。
  • フルカバースタイルで静粛性・安全性を向上
    真空ポンプをカバー内部に収納することで、設置環境の静粛性を向上しました。またアーク蒸発源の 荷電部や配線類をカバーで覆い、インターロックを付与することで
    安全性も向上しました。
成膜可能な膜種
  • 単層膜
    TiN,TiCN,TiAlN,TiSiN,その他Ti系被膜
  • 積層膜
    CrN,AlCrN,その他Cr系被膜
  • 超多層膜
    その他
用途
切削工具、金型、自動車部品、機械部品、装飾、その他

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アドバンスドコーティングシステムiDS-miniは、iDS500を性能はそのままで小型化することにより、さらなる低コスト、短サイクルのコーティング処理を可能とした、小規模生産・研究
開発用の次世代アークイオンプレーティング装置です。
iDS-miniの特長
  • 低コストの実現
    蒸発源の少なさ、小型化により、装置の値段を抑えることに成功しました。
  • 短サイクルの実現
    その小ささにより、排気速度が向上、さらにアーク電流を従来より高めることにより蒸発速度を速めることができ、iDS500を超えた
    短サイクルを実現しました。
  • 生産規模の変化にも対応
    装置導入時に、生産規模に合わせた最小限の蒸発源の搭載数にできるため初期投資を抑えることができます。また、生産規模の変化等に応じて蒸発源を増設することができます。
成膜可能な膜種
  • 単層膜
    TiN,TiCN,TiAlN,TiSiN,その他Ti系被膜
  • 積層膜
    CrN,AlCrN,その他Cr系被膜
  • 超多層膜
    その他
用途
切削工具、金型、自動車部品、機械部品、装飾、その他

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大幅なコーティング材料コストの低減
新開発のアーク蒸発源は、カソード材料をφ160×t12のサイズまで大型化し、広い面積を
効率よく消耗させるため、磁石を回転させる独自の構造となっています(特許登録済み)。
これらによりカソード材料の長寿命化が達成され、カソード材料コストを大幅に低減
できました。更に、上記の磁石の回転により、アークスポットが掃引されることで、
ドロップレットが低減し、面粗度の向上が達成されました。
ステアワン蒸発源による面粗度の向上
ALCrN膜での比較
       
  弊社:従来蒸発源               ステアワン蒸発源


Mシリーズ
セラミックス薄膜のコーティングによる表面改質に、独自のスムースコーティングテクノロジーを駆使した、 優れた膜質と高い生産性を実現する陰極アーク式イオンプレーティング装置です。
装置の特長
  • 優れた生産性、豊富な装置バリエーション
  • スムース蒸発源
  • ドロップレットを低減
  • 多元系複合膜、積層膜の生成が可能
  • 自動システムによる簡単運用
  • ショートサイクル
  • 低ランニングコスト
  • データ管理機能
  • 信頼性、安全性、柔軟性
  • 操作性、メンテナンス性
  • 安心のサポート
成膜可能な膜種
TiN、TiCN、TiAlN、CrN、その他
用途
切削工具、金型、自動車部品、機械部品、装飾、その他
選択可能なアーク蒸発源バリエーション
ラインナップと標準仕様
  M500C M500D M720E
装置型式 M500C
-600
M500C
-060
M500C
-303
M500D
-800
M500D
-080
M500D
-404
M720E
-A00
M720E
-0A0
M720E
-505
推奨
コーティングゾーン
φ500×H400[mm] φ500×H600[mm] φ720×H800[mm]
蒸発源数 6units 8units 10units
蒸発源
ユニット
構成
2S×6 3S×6 2S×3
2SD×3
2S×8 3S×8 2S×4
2SD×4
2S×10 3S×10 2S×5
2SD×5
付属治具テーブル 8軸自公転治具
成膜方式 陰極アーク式イオンプレーティング
基材エッチング方式 ガスボンバード、メタルボンバード
カソードサイズ φ60×t32[mm]
扉数 2ドア
ガス系統 標準4系統
ヒーター 標準装備
温度
モニター
標準装備(熱電対計測2か所)
主排気
ポンプ
ターボ分子ポンプ
制御
システム
全自動
推奨
設置
スペース
W4500×D5300×H3000[mm] W5000×D6500×H3000[mm]
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